(pressebox) Yokkaichi, Mie, Japan, 12.07.2011 – Toshiba Corporation (TOKYO: 6502) und SanDisk Corporation (NASDAQ: SNDK) feierten heute die Eröffnung von Fab 5, der dritten 300-mm-Wafer-NAND-Produktionsstätte auf dem Gelände von Toshiba Yokkaichi Operations in der japanischen Präfektur Mie.
Die Nachfrage nach Smartphones, Tablet-PCs und anderen elektronischen Geräten und der damit verbundene weltweite Bedarf an NAND-Flash-Speichern steigt rasant an. Der Grundstein für den Bau von Fab 5 wurde im Juli 2010 durch Toshiba gelegt. Der Herstellungsprozess in dieser neuen Produktionsstätte, die von Toshiba und SanDisk technisch ausgestattet wurde, startet im Juli 2011. Die Produktion in Fab 5 basiert derzeit auf der 24-nm*-Technologie, die ersten Speicher-Chips werden das Werk im August verlassen. Nach und nach wird in Fab 5 zudem auf noch fortschrittlichere Prozesse umgestellt. So wurde bereits vor kurzem die Umstellung auf eine 19-nm*-Technologie angekündigt; hierbei handelt es sich um die weltweit kleinste und leistungsstärkste Fertigungstechnik.
Das Fab 5-Gebäude wurde nach dem neuesten Stand der Technik erdbebensicher ausgelegt und ist mit diversen Sicherungssystemen vor Stromausfällen geschützt. LED-Beleuchtung und energiesparende Anlagen tragen zum Emissionsziel von Toshiba bei, im Vergleich zur Vorgängerproduktionsstätte Fab 4 den Kohlendioxidausstoß um 12 Prozent zu senken. Ein ausgeklügeltes Speichertransportsystem verbindet die Fabrik außerdem mit den Produktionsstätten Fab 3 und Fab 4 und gewährleistet so einen effizienten Fertigungsprozess.
Die hochmodernen Fertigungsanlagen in Fab 5 wurden durch die Flash Forward Ltd. finanziert. Hierbei handelt es sich um ein gemeinsames Unternehmen von Toshiba und SanDisk, das im September 2010 gegründet wurde. 50,1 Prozent der Anteile an diesem Unternehmen sind im Besitz von Toshiba, 49,9 Prozent im Besitz von SanDisk.
* Hinweis: 1 Nanometer = ein Milliardstel Meter
Überblick über die Fab 5-Produktionsstätte in Yokkaichi Operations
Bauwerk: Stahlrahmen-Beton-Konstruktion mit zwei Ebenen und fünf Etagen
Baufläche: ca. 38.000 qm
Grundfläche: ca. 187.000 qm
Baubeginn: Juli 2010
Fertigstellung: März 2011
Produktionsbeginn: Juli 2011
Überblick über den Toshiba-Standort Yokkaichi Operations
Adresse: 800 Yamanoisshiki-cho, Yokkaichi, Präfektur Mie
Eröffnung: Januar 1992
Geschäftsführer: Koji Sato
Mitarbeiterzahl: ca. 4.400 (Stand: Ende März 2011, nur Festangestellte)
Gesamtgröße des Areals: ca. 436.800 qm
Gesamtgebäudefläche: ca. 647.000 qm
Überblick über Flash Forward Ltd.
Adresse: 800 Yamanoisshiki-cho, Yokkaichi, Präfektur Mie
Eröffnung: September 2010
Präsident und CEO: Hideyuki Kobayashi
Besitz: Toshiba: 50,1 %, SanDisk: 49,9 %
Am SanDisk-Produktionsstandort in Yokkaichi arbeiten mehr als 300 Mitarbeiter unter der Leitung des Präsidenten und Geschäftsführers von SanDisk Japan, Dr. Atsuyoshi Koike.
Über Toshiba
Toshiba ist eines der weltweit führenden Hightech-Unternehmen. Als diversifizierter Hersteller und Anbieter von elektronischen und elektrotechnischen Produkten bieten wir innovative Lösungen in einer Vielzahl von Bereichen – von Informations- und Kommunikationssystemen, Unterhaltungselektronik, elektronischen Baugruppen und Komponenten über Kraftwerkstechnik (einschließlich Kernenergieanlagen) und Infrastrukturlösungen für die Industrie und die öffentliche Hand bis hin zu Hausgeräten. 1875 gegründet, ist Toshiba heute ein global tätiger Konzern aus über 740 Unternehmen. Mit 204.000 Mitarbeitern erwirtschaften wir weltweit einen Jahresumsatz von über 6,3 Billionen Yen (77 Mrd. US-Dollar).